Optical Design Optical Modeling 3D Fabrication Nano Imprint
Nano Imprint
Nano Imprint to meet customer’s needs.
정밀 & 정렬 복제가 가능한 나노 임프린트 공정기술(Nano Imprint Tech.)을 통해 최고의 성능과 품질 경쟁력을 갖는
대면적 WLMO(Wafer Level Micro Optics) 광학소자와 3차원 공학소자(건식 접착소자)의 양산화 기술을 제공 합니다.
Nano Imprint Technology
특화된 LDW(Laser Direct Writing) 기술 및 MEMS 반도체 기술로 제작된 마이크로 & 나노 사이즈의 3차원 광·공학소자의 패턴을 대면적 Wafer 위에 정렬 & 복제하여 초정밀 3차원 구조 제품의 대량 양산이 가능해 집니다.

NIL stamp substrate : Silicon, Fused Silica
Replication Polymer Mold : PDMS NIL Stamp
Working Stamp Master Type : Ni Hard & Polymer Mold
Operation Size : Wafer Level Micro Optics(6 & 8 inch)
Product Type : Polymer on Glass, Polymer on Film, Polymer, Film etc.
Additional Service : AR Coating, Chip Sawing, etc.
Wafer Level Micro Optics(WLMO)
Working Stamp Master를 이용하여 Wafer level 광학소자를 제작하는 기술
Working Stamp Master
Single Master Mold로 Step and Repeat 기술을 이용하여 Wafer 크기의 Stamp 제작하는 기술
R2R Nano Imprint
Roll to Roll 방식을 이용한 제품의 대량 생산 시스템

Replication Polymer Mold
Micro LED의 부품 이송용 구조기반 건식 접착 소자